半导体板块炒作升温，光刻胶概念股再次爆发

        上午大盘低开低走，创业板指跌超1%抹去年内涨幅，两市超4200只个股下跌。

好在临近上午收盘前，三大指数均被资金抄底快速拉升反弹，如果下午多头能够进一步发力上攻的话，大盘尤其是超跌创业板指数反弹时机就会到来了。

板块方面，数字经济科技股虽然表现有所分化，但依旧是资金关注焦点。与此同时，半导体板块炒作也逐渐升温起来了，近期持续飙升的光刻胶概念股再次强势上涨，并且存储芯片、设备、分立器件等细分概念股表现也可圈可点。

简单总结一下，目前资金对半导体板块炒作焦点主要集中在上游设备和材料环节，随着行情炒作升温，有望逐步扩散到封测、设计、制造乃至整个产业链！

消息面上，本次光刻胶板块的走强，来源于一则传闻和一个调研记录。

3月7日晚间，某上市公司在发布的投资者关系活动记录表中提到，公司的干膜光刻胶、显示用光刻胶、半导体光刻胶等产品已经面向市场实现了批量销售，其中部分产品已进入核心客户的供应链体系。

与此同时，市场上也有传闻称，日本某光刻胶大厂已经执行美国“实体清单”的限制要求，对中国大陆某存储晶圆厂断供了KrF光刻胶。不过，目前该消息并没有得到明确的证实。

日本在光刻胶上对别国“卡脖子”早有先例。2019年7月，日本政府宣布，对韩国光刻胶、高纯度氟化氢、氟聚醯亚胺三项高科技材料实施出口限制。而随着近日韩国对日态度的软化，日本官方宣布，将“尽快”协商，解除对韩国的半导体材料出口管制令。

光刻胶在芯片制造过程中占据重要地位，直接影响集成电路的性能、成品率以及可靠性。

根据资料显示，光刻胶产品按照下游应用领域分为半导体光刻胶（IC光刻胶）、PCB光刻胶、LCD光刻胶。

其中，半导体光刻胶技术难度最大，其根据曝光波长分为i线光刻胶(365nm)、KrF光刻胶(248nm)、ArF光刻胶(193nm)等，曝光波长越短，适用IC制程工艺越先进。当前，我国半导体光刻胶市场主要由外资企业垄断，国产化程度较低。

东方财富证券研报表示，日美企业厂商占据国内高端光刻胶市场大部分份额，其中G/I线国产化率10%，高端KrF、ArF国产化率不足5%。一旦断供，国内多家晶圆厂或将面临光刻胶缺货风险。

因此材料端自主可控成为国际大趋势，光刻胶下游客户对供应链安全性的关注度大幅提升，将主动或被动的快速导入国产光刻胶，国内企业迎来高端光刻胶国产替代良机。

浙商证券指出，光刻胶国产化是大势所趋，随着关键原材料国产化进程提速，国内厂商有望实现份额提升。目前部分国内企业已实现 KrF 胶量产，打破国外垄断，少数厂商已实现 ArF 光刻胶自主技术的突破。

风险提示：全球宏观经济波动风险；下游终端需求不及预期风险；技术发展及商业化不及预期风险；国产替代不及预期风险。